硅芯片检查显微镜LW300MT
硅芯片检查显微镜LW300MT简介：
LW300MT硅芯片检查显微镜专为微电子行业量身定做，适用于硅、砷化镓、磷化铟等基片6″8″盘的生产工艺检查；可以方便的快移和精确的位移检查；也可以适用其它需较大面积标本的工艺检查
硅芯片检查显微镜LW300MT技术参数：
目 镜: 10X 广角目镜, 焦距25 mm, 视场数Φ22 mm。
三目镜: 30°倾斜，瞳距：53~75 mm。
物 镜: 无限远平场消色差明/暗视场物镜 (无盖玻片)
放大倍数 | 数值孔径 | 工作距离(mm) | 备注 |
5X | 0.12 | 9.70 | |
10X | 0.25 | 3.73 |
20X | 0.40 | 7.23 |
40X | 0.60 | 3.04 |
转换器: 四孔滚珠内定位转换器。
载物台: 双层机械式载物台, 尺寸：210 X 140 mm，移动范围：75 X 50 mm。
聚光镜: 阿贝聚光镜（带孔径光栏, 数值孔径1.25）。
调焦机构：粗微同轴调焦，粗动手轮松紧可调，带限位锁紧装置，微动格值2μm/格。
照 明: 上光源（落射照明）12V50W卤素灯，亮度可调。
下光源（透射照明）12V30W 卤素灯，亮度可调。
电 源：输入电源电压 (85~265V 50/60Hz)。
上海铸金分析仪器有限公司
联系人：杨经理
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