DIC微分干涉工业显微镜JXM-4100
特点
DIC微分干涉工业显微镜JXM-4100是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的，作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其超强性能，可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式，在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰，衬度更好。符合人机工程学要求的设计，使您在工作中感到舒适和放松。
参数
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技术规格
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观察头
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30°铰链式三目（50mm-75mm）
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目镜
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WF10×/25mm
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物镜
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平场无限远长工作. 距离明暗场物镜：
5×/0.1B.D/W.D.29.4mm、
10×/0.25B.D/W.D.16mm、
20×/0.40B.D/W.D.10.6mm、
40×/0.60B.D/W.D.5.4mm、
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转换器
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带DIC插孔四孔转换器
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平台
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双层移动平台
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平台尺寸: 189mm×160mm
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移动范围：80mm×50mm
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滤色片
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插板式滤色片（绿、蓝、中性）
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聚光镜
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N.A.1.25阿贝聚光镜带可变光阑和滤色片
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调焦
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粗、微动同轴调焦，采用齿轮齿条传动机构.微动格值0.002mm
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光源
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透射照明:卤素灯12V/50W, AC85V-230V,亮度可调节
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落射照明:带孔径光栏和视场光栏，卤素灯12V/50W，AC85V-230V, 亮度可调节
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偏光装置
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检偏镜可360度转动，起偏镜、检偏镜均可移出光路
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检测工具
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0.01mm测量尺
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特点说明
1． 采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2． 拓展了物镜的复用技术，无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法，DIC并在
每一观察法中均提供高清晰的图像质量。
3． 采用非球面Kohler照明，增加观察亮度。
4． WF10×（Φ25）超大视野目镜，长工作距离明暗场金相物镜。
5． 可插DIC微分干涉装置的转换器。
优点
光学系统：UCIS无限远色差独立校正光学系统。
1. *机身：一体化设计，整体压铸，机身更加稳定牢固。
2. 放大倍率：40～l000X。
3. *目镜：具有防霉功能，平场10X高眼点目镜，视场22mm，高眼点观察，瞳孔距离21mm，屈光度可调。
4. *物镜：无限远平场消色差物镜（具有防霉功能），4X/0.10；10X/0.25；40X/0.65（带弹簧和缓冲装置）；100X/1.25 （油、带弹簧和缓冲装置）。
5. 绞链式三目：无限远，观察角度30°，双瞳距离48mm～75 mm，视度可调。
6. *物镜转换器：内倾内定位五孔转换结构。
7. *粗微调焦装置：低位粗动同轴调焦手轮；微动手轮0.1mm/转，格值0.001mm；微调格值越小，调焦越清晰。粗动松紧可调，14mm/转；工作台上限位装置，最大行程20mm； 粗微调焦手轮位置上下可调，满足不同用户的需求（国家专利）。
8. *载物台：无导轨机械移动平台，185mm×177mm，带移动尺，移动范围75×50mm，精度0.1mm；X、Y向低位同轴调节手轮。
9. C接口：0.5X，可适配数码摄像头或数码相机。
10. *聚光镜：聚光镜托架配备聚光镜中心调节装置；阿贝聚光镜（视场光阑可调）N.A.1．25 手轮升降式，齿轮齿条调节，精准的聚光镜上下可调系统，使聚光镜能够精确地与各种倍数的物镜匹配使用。聚光镜托架配备聚光镜中心调节装置，便于照明系统中心对准，聚光效果更加优异，聚光镜孔径光阑采用与物镜色圈颜色相同的标记，便于得到高分辨率、高对比度的图像，即使对显微镜设置不熟悉的用户也可以很快掌握，为便于显微镜的相衬升级，同时配备相衬插孔。。
11. 照明系统：110V-240V，50/60Hz，宽电压设计，6V20W卤素灯照明，亮度连续可调。
12. 优异独立散热系统，24小时照明的情况下，显微镜主机仍然能够保持较低的温度（国家专利）。
13. 专用搬运把手。
1.HT300C数码摄像头，1/2''CMOS，配专业显微图像处理软件，可对图像进行静态、动态采集和管理，色彩处理，测量等操作。
14. 。
15. 中外合资企业、国家高新技术企业、通过ISO9001、ISO14001、CE、13485认证。