DIC微分干涉工业显微镜JXM-4100
特点
DIC微分干涉工业显微镜JXM-4100是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的，作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其超强性能，可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式，在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰，衬度更好。符合人机工程学要求的设计，使您在工作中感到舒适和放松。
参数
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技术规格
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观察头
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30°铰链式三目（50mm-75mm）
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目镜
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WF10×/25mm
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物镜
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平场无限远长工作. 距离明暗场物镜：
5×/0.1B.D/W.D.29.4mm、
10×/0.25B.D/W.D.16mm、
20×/0.40B.D/W.D.10.6mm、
40×/0.60B.D/W.D.5.4mm、
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转换器
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带DIC插孔四孔转换器
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平台
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双层移动平台
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平台尺寸: 189mm×160mm
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移动范围：80mm×50mm
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滤色片
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插板式滤色片（绿、蓝、中性）
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聚光镜
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N.A.1.25阿贝聚光镜带可变光阑和滤色片
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调焦
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粗、微动同轴调焦，采用齿轮齿条传动机构.微动格值0.002mm
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光源
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透射照明:卤素灯12V/50W, AC85V-230V,亮度可调节
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落射照明:带孔径光栏和视场光栏，卤素灯12V/50W，AC85V-230V, 亮度可调节
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偏光装置
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检偏镜可360度转动，起偏镜、检偏镜均可移出光路
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检测工具
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0.01mm测量尺
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特点说明
1． 采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2． 拓展了物镜的复用技术，无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法，DIC并在
每一观察法中均提供高清晰的图像质量。
3． 采用非球面Kohler照明，增加观察亮度。
4． WF10×（Φ25）超大视野目镜，长工作距离明暗场金相物镜。
5． 可插DIC微分干涉装置的转换器。