产品介绍
P/N: OG-ACE紧凑型台式反应离子刻蚀（RIE）系统Compact Table-Top RIE Systems
ACE 多功能台式等离子处理系统基本应用
? A – Ashing 光刻胶灰化、Activation材料表面活化
? C – Cleaning 等离子清洗
? E – Etching 等离子刻蚀
? 各向同性的等离子刻蚀（Isotropic Plasma Etching）
? 各向异性的反应离子刻蚀（Anisotropic RIE）
ACE 多功能台式等离子处理系统其它应用
? 去除有机物 Organic Removal；
? PDMS键合 PDMS Bonding;
? 有机物预键合 Oxides Pre-Bonding;
? 失效分析 Failure Analysis;
? 电子器件及混合物清洗Devices, HybridsCleaning
ACE 等离子系统的技术规格优势
? 标准射频功率：10~150W @ 13.56 MHz (功率适中，价位较300W低廉)；
? 自动操作计时器：射频电源实际放电，舱内辉光后，开始计时及定时；
? 参数显示：旋钮切换显示射频功率设定值、舱内实际功率、舱内真空度等（较触摸屏略简化，但经济适用，满足基本功能需要）；
? LED系统自检外设卡：LED显示器用于系统模块状态故障自检（无需专业人员维护，根据LED显示情况即可判断故障所在，并采取修正措施）；
? 真空处理舱建造材料：舱体采用阳极氧化6061-T6航空级铝材（材质性能稳定，且不会与材料起反应，造成二次污染）；
? 样件支架：双用途支架，用于不同工艺应用即标准等离子工艺处理、反应离子刻蚀（RIE）工艺处理(仅通过手动切换，无复杂的电子部件，性能稳定)；
? 配套真空泵浦使用工艺气体: 大气、氩气、氮气、活性气体如氧气及氟化气体如四氟化碳(抽气速率为166 l/min, 5.8 CFM, 10 m3/hr、真空度可达5x10-4 Torr, 6.7x10-2 Pa,.0006 mbar)；能够快速抽空真空舱、实现等离子辉光；
? 系统整机经过安全检测、通过CE认证；
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通罗马科技（北京）有限公司
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