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产品介绍

系统简单配置如下：

Load lock

真空系统: 机械泵Oil pump/Dry pump + 涡轮分子泵/低温泵/电磁泵

离子枪: DC / RF

均匀性：100 mm衬底 +/- 4%, 刻蚀速率降低均匀性优于+/-2%

衬底尺寸：4英寸衬底（4-12英寸可选），水冷。

终端检测系统：SIMS 或激光干涉仪。

控制方式：全自动电脑控制，半自动或手动控制可选。

代表性用户：法国科学研究中心（CNRS）、意法半导体（ST）

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