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 德国Nanoscribe公司起源于著名的KIT大学，是世界顶尖的提供3D纳米微光刻设备的高科技企业，该公司拥有多年3D光刻的经验，与Karlsruhe技术研究所的科学家以及Carl Zeiss公司紧密合作，致力于为光刻领域提供功能丰富、操作简便的三维光刻产品。
产品结构紧凑，操作简捷，可以在现有的多款光刻胶产品上进行真实的任意形状的3 D纳米结构的激光光刻。其优异性能基于多光子吸收效应：当超快激光脉冲曝光预定义的3D微纳米机构，会产生一个粘附于基底的紫支撑结构。这种方法得到的特征物尺寸大小大多小于150nm。显微镜物镜，精密电动位移台将针对不同的应用领域进行特定配置，通过这种方法，一个深至300um，面积为100×100mm2的结构可以加工得到。
需要的结构可以用通用的CAD软件（格式：DXF，STL）或者Nanoscribe的专用软件创建，Nanoscribe的编程软件简单易用，并可对所有可调整的系统参数进行设置。
主要应用：
光子学：光子晶体，中间材料，DFB激光器，光子环形谐振腔，衍射光学元件
微光学：微光学器件，集成光学器件
微流体：芯片实验室，物质开发，分析，微流体通道3D雕刻
生命科学：超细胞矩阵，干细胞鉴别，细胞生长研究，细胞迁移研究，组织工程学
纳米技术：超分辨掩模制作，Gecko/Lotus效应检查
   
多款光敏材料可被进行3D光刻，多数为polymers.此外，基于对技术的深入了解，Nanoscribe也可以对金属，半导体以及SiO2材料进行3D光刻。
Nanoscribe公司针对研发需要，特殊开发了具有自主知识产权的可用于3D激光光刻用的IP-L,IP-G光刻胶。
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