主要特点：
该纳米压印机利用紫外曝光或者热压固化实现压印图案在压印高分子胶层中的复制，并通过各项功能与过程参量的优化与筛选，通过远程PLC控制系统结合触摸屏单元，实现纳米压印全过程的实时监控与全自动化控制。
技术参数：
YPL-NIL-SI400纳米压印系统：
温度范围从室温到250摄氏度；
压力范围从0到300个PSI(对于4英寸晶元)；
紫外曝光系统；
真空范围从1个标准大气压到0.1帕；
水冷系统；
样品尺寸直径最大4英寸；
PLC远程控制，带触摸屏；
手动装载样品和模板；
自带机器控制软件；
在软件控制下可实现自动增加和释放压力；
可定制更大样品尺寸或更大压力系统的纳米压印机。