采用独创制造工艺，可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2"、3"、4"。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。
技术参数：
Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si, SiNx, SiC, quartz,glass).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For smaller area, minimum feature size of 50 nm.
提供各种材料的纳米压印模板(硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃)。模板最大尺寸：4英寸，特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸，最小的特征尺寸可以达到50nm。
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Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers.
提供最低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。
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Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si, III-V, II-VI and polymers.
各种纳米结构(硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物)的微纳米加工。
主要特点：
soft mold for thermal nanoimprint 热压印的软模板
quartz mold for UV nanoimprint 紫外压印的石英模板
silicon mold for thermal nanoimprint 热压印的硅模板