ZL半导体专用设备温控装置Chiller循环制冷机
主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精ZHUN控制，具有温度稳定性高、温度范围广、故障诊断、外部通信等丰富功能的装置。在半导体制作过程/激光加工机/分析装置/FPD制造装置等用途中成果较多。
本设备采用变频控温方式，提高能效，减少能耗。-20℃下目标制冷量可以达到3600W，满足用户制冷需求。精QUE控温，控温稳定性达到±0.1℃，使用范围广，设定温度：-20℃~80℃。
ZL半导体专用设备温控装置Chiller循环制冷机
应用于半导体行业蚀刻装置，CMP (工艺机械抛光)，实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。
温控精度（空载时）±0.05℃
触摸屏操作，人机交互界面
连锁控制、可靠性高
定时运转、液面降低、停电复位、防冻功能
温度波动小
占地面积小、保护装置
快速升温/降温、提高生产效率、降低运营成本和保障生产
运行稳定、准确控温
可用选项
省空间、省配线、省配管、省工时、双变频型更节能。
可对应温度稳定性（空载时）±0.05℃。
循环液：氟化液、60%乙二醇水溶液、清水、去离子水(纯水)
冷却方式：水冷式