Tc-wafer离子注入晶圆温度测量系统 热电偶晶圆测温系统
产品引言
离子注入是一种将离子以高速注入半导体晶圆表面的技术，以改变半导体材料的导电性能。在离子注入过程中，控制晶圆的温度至关重要，因为温度对注入效率、晶圆质量以及*终产品性能产生重要影响。因此，离子注入晶圆温度测量技术在半导体制造中具有重要作用。
离子注入的温度控制对于确保制造过程的一致性和可重复性至关重要。温度的精确测量和控制可以影响离子注入的深度、分布和浓度，从而影响晶圆的电学性能。一旦温度变化超出了预定范围，注入的离子可能会扩散得不均匀，导致制造过程中的差异，甚至是不合格品的产生。
产品概述
智测电子TC-WAFER离子注入晶圆温度测量系统测量精度可达mk级别，可以多区测量晶圆特定位置的温度真实值，也可以*准描绘晶圆整体的温度分布情况，还可以监控半导体设备控温过程中晶圆发生的温度变化，了解升温、降温以及恒温过程中设备的有*性。
智测电子还提供整个实验室过程的有线温度计量，保*温度传感器的长期测量精度。
合肥智测电子致力于高精度温测、温控设备的生产和研发定制，为半导体设备提供可靠的国产解决方案。
产品特点
半导体制造厂 Fab，PVD/CVD 部门、RTP 部门等使用。
传感器可以定制。
高精度多通道数据采集仪。
优异的软件功能，方便数据统计、趋势绘图和数据导出。
产品优*
高精度：由于其直接嵌入在晶圆表面，可以实现对晶圆温度的实时、精确监测。
可靠性：传感器材料稳定，适应长期运行，不易受到外界干扰。
高灵敏度：微小的温度变化也能被传感器准确地捕捉，确保制程的稳定性。
即时性：传感器的实时性能使得生产线上的温度调整能够迅速响应，减少生产过程中的温度波动。
Tc-wafer离子注入晶圆温度测量系统 热电偶晶圆测温系统