一、聚焦离子束扫描电镜（FIB）检测介绍
FIB样品制备是从纳米或微米尺度的试样中直接切取可供高分辨电镜研究的薄膜。试样可以为IC芯片、纳米材料、颗粒或表面改性后的包覆颗粒，对于纤维状试样，既可以切取横切面薄膜也可以切取纵切面薄膜。对含有界面的试样或纳米多层膜，该技术可以制备研究界面结构的透射电镜试样，另一重要特点是对原始组织损伤很小。材料中每一个晶向的排列方向不同，可以利用遂穿对比图像进行晶界或晶粒大小分布的分析。
二、聚焦离子束扫描电镜（FIB）用途及功能：1.定点剖面形貌和成分表征 2. TEM样品制备 3. 微纳结构加工 4. 芯片线路修改5.切片式三维重构6.材料转移 7.三维原子探针样品制备
三、聚焦离子束扫描电镜（FIB）适用领域：结构分析、材料表征、芯片修补、生物检测、三维重构、材料转移等，该系统可适用于横截面和断层扫描，3D分析，TEM样品制备及纳米图形加工；
四、聚焦离子束扫描电镜（FIB）检测要求
1、块体用FIB制样，厚度30nm左右；粉末提供10mg左右；无挥发性，固体、块体长宽小于20mm，高度小于4mm。纳米颗粒或者纳米片建议用微栅或者超薄碳膜制样；
2、样品要求导电性良好，如果导电性比较差的话需要进行喷金或喷碳处理。
3、透射样品制备只能切出的样品厚度可以拍透射。
4. 含磁性元素的样品必须提供粉末用于验证磁性。
五、聚焦离子束扫描电镜（FIB）常见问题
1. fib切的透射薄片有孔或者部分脱落有影响吗？
切样的目的就是为了减薄样品，一些材质减薄后就会出现部分脱落，穿孔的现象，属于正常现象，有薄区，不影响透射拍摄即可，比如离子减薄制样就是要在材料上穿一个孔。
2.三维原子探针数据中的pole是怎么出现的，基于什么原理？
原子蒸发过程中低指数面脱落，由于是多个原子一起飞出，导致探测器无法识别，产生类似极图的分布。同时部分元素蒸发过程中在pole可能发生偏聚，所以某些元素的pole会很明显。
3.如何在三维原子探针采集数据过程中得到pole？
可以通过调整角度或位置获得想要的取向的pole。但不是所有材料都能有明显的pole。另外，pole的清晰程度跟设备的型号也有关系。
4.温度和脉冲频率对三维原子探针的测量结果有什么影响？
温度和脉冲频率对三维原子探针的测量结果基本没有什么影响，对元素同位素丰度的测量结果也没有什么影响。只要是在合适的温度和脉冲频率下，三维原子探针就可以比较准确地对纳米空间内的元素进行定量分析，并能给出位置分辨率较高的分布图