参数：
主机规格：305mm×365mm×325mm（W×D×H）
靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（标配），也可根据实际情况配备银靶、铂靶等
样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф50mm
真空指示表：真空度：≤ 4X10-2 mbar
离子电流表：电流：50mA
定时器：3600s
微型真空气阀：可连接φ3mm软管
可通入气体：多种
电压：-1600 DCV
输入电压：220V(可做110V),50HZ
机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8）
产品说明：
本仪器主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样的仪器。放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足定时要求。特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜。具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材，配有高位定性的飞跃真空泵。
特点：
1.同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、银等），以达到更细颗粒的涂层。
2.一键式操作，使用方便。
3.真空保护可避免真空过低造成设备短路。
需要镀膜的样品：
1.电子束敏感的样品:
主要包括生物样品，塑料样品等。EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
2.非导电的样品:
由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得好的成像质量。
3.新材料:非导电材料和半导体材料
·创新的低压直流冷态溅射镀膜，避免样品微纳结构热损伤。
·溅射电流可预设也可在镀膜过程中实时调节。
·操作容易快捷，自动或手动操作，靶材快速更换。