合创鸿业向用户提供基于EBIC电子束感生电流技术和EBAC电子束吸收电流分析技术的EFA电性失效分析系统。
亚微米平面分辨率下揭示电路集成
诊断电路结构和其他长期课题，包括电路污染、金属花斑缺陷（pattering defects），电阻互联板（resistive interconnectors）或者电迁移（electro-migration）
直接辨别电路缺陷到具体某一层和失效的具体位置，迅速改进从而大幅提生产品质量
对样品中的开路、有阻值或者短路缺陷进行准确定位
对金属@线中由于断裂、腐蚀、电子迁移或者外来颗粒造成的电路阻断进行准确定位
准确识别连接处由于界面污染造成的电阻开路
FIB制样过程中准确定位，为透射电镜做出高质量样品
可在在很薄的绝缘体层中确定缺陷位置
在彻底失效前，直接观测栅极氧化层（GOX）和氧化电容器（COX）中的缺陷，并对其准确定位
亚微米分辨率下，准确定位由静电放电（ESD）和过电应力（EOS）导致的氧化物短路
定位过程中，通过低至nW级的电力损耗，可保护样品的原始缺陷特征
1欧姆精度下，可对低至100欧姆电阻结构制图
高空间分辨率下绘制电阻图，受限于扫描电镜的 电子束和样品作用体积(interaction volume)
确认电阻和电容中相对标称值的偏离
揭示CMOS的连接、电阻和电容结构中的损坏和失效机理
高达8个纳米探针机器人，用于纳米分辨率下的X，Y，Z轴运动和旋转
可取出的附带原位电器的纳米探针样品台，用于低噪音快速分析
完全的软件集成和软件控制
也适用于光学显微镜
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