手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式实现主机和真空腔体分离，既保留了等离子清洗机VP-R3自动化操作的便利及PLASMA处理效果，又实现把真空腔体分离，便于放入手套箱的狭小空间，解决了用户对PLASMA处理精细化的痛点。
手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式是在VP-R系列基础上进行设计、研发，等离子体激发频率为13.56MHz，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32°C，不损伤样品，对材料表面起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、PI、二氧化硅、亚克力等几乎所有材料的PLASMA处理。
手套箱专用等离子清洗机的腔体是分开的，真空腔采用石英玻璃——直径150mm，纵深200mm的圆柱形腔体；外壳采用耐腐蚀的高强度铝合金——长宽高为296x245x253mm；材料的放置、处理、取出均在无氧无水、零污染的手套箱内完成，从而实现PLASMA等离子处理更精细化的实验要求。
