旋转型等离子清洗机VP-T3解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全，不均匀的痛点，真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保的样品得到完全、均匀的等离子处理。VP-T3频率是13.56MHz，腔体采用石英（容积3L），旋转型等离子清洗机转速可调，可关闭（不旋转相当于普通真空等离子处理仪），一机两用，性价比很高。
