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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅极离子源.
离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr
离子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射频技术产生离子, **电离灯丝, 工艺时间更长.
通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
伯东代理美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:
离子源型号 | RFICP 220 |
Discharge | RFICP 射频 |
离子束流 | >800 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 20 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 30 cm |
直径 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
伯东代理美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：
1. 预清洗
2. 表面改性
3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4. 溅镀和蒸发镀膜 PC
5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6. 离子蚀刻 IBE
KRI 射频离子源相关应用案例:
1. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE
2. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 325 辅助 LED-DBR 镀膜
3. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
伯东代理美国 KRI 射频离子源 RFICP 220
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