光谱椭偏仪广泛用于薄膜分析和测量。
Holmarc的光谱椭圆仪结合了旋转分析仪椭偏仪技术来表征薄膜样品。它使用高速CCD阵列检测来收集整个光谱。它可以测量从纳米厚度到数十微米的薄膜，以及从透明到吸收材料的光学特性。它可以精确地测量光学常数，例如折射率，薄膜厚度和消光系数。
| 光谱范围：450-800nm |
| 探测器：线阵CCD摄像机 |
| 分辨率：2nm |
| 光源：卤素灯 |
| 入射角：50-75度（分辨率：0.1度，自动操作） |
| 厚度测量范围：0.1nm-10micron |
| 膜厚分辨率：0.01nm |
| 测得的RI分辨率：0.001 |
| 样品对准：半自动（光学检测），手动10mm高度调节和倾斜 |
| 样品台特点：X-Y平移超过150 x 150mm（可选） |
| 可测量的薄膜参数：折射率，消光系数，吸收系数和薄膜厚度 |
| 软件功能： |
| 采集和分析不同波长和角度下的PSI，增量和反射率 |
| 用户可扩展材料库 |
| 数据可以另存为Excel或文本文件 |
| 先进的数学拟合算法 |
| 提取厚度和光学常数 |
| 参数化模型 |
| 多层厚度测量 |
椭偏原理
椭偏法是用于薄膜分析的高度灵敏的技术。该原理依赖于从表面反射时光的偏振态的变化。
表征极化状态，对应于电磁波电场的方向；选择两个方向作为参考，p方向（平行）和s方向（垂直）。反射光具有在p方向和s方向上不同的相位变化。椭偏法测量这种极化状态；
特征
无损非接触技术
单层和多层样品的分析
精确测量超薄膜
测量，建模和自动操作软件
对（Ψ，Δ）的统一测量灵敏度