美国专业的制造商，拥有20多年丰富的经验在：电子束蒸发设备、磁控溅射设备、热蒸发设备等。有以下功能模式：
electron beam evaporation， 电子束蒸发；
resistive evaporation，热阻蒸发；
ion beam assisted deposition (IBAD)， 离子束辅助蒸发镀膜；
effusion cell，泻流源。
PVD产品'完整的热和电子束蒸发系统的设计，以满足客户的特殊需求沉积。这些系统可以包含根据需要的单个或多个热源，多袋式电子束源和多枪源。线性电子束源也可提供。
光纤涂层系统
系统来完成与电源和沉积速率监视器闭环反馈控制。衬底行星或旋转阶段可包括加热到温度超过900℃的根据基板尺寸和材料。此外，离子束辅助沉积（IBAD）或底物预清洗考夫曼，结束音乐厅和RF离子源可以方便地集成到我们的沉积室。
在生产蒸发系统6厘米射频离子源
我们所有的蒸发系统的来完成适当的泵浦包（根据系统要求低温或涡轮泵），湿式或干式机械泵，手动或电动气动阀，所有必需的真空计，完整的电力分配，电子机架，水和空气歧管，安全联锁装置，等等。
多晶片行星圆顶，和基片加热器可被提供为各种基材的形状和大小。负载锁可用于基片直径达8英寸（200毫米）。真空系统可以被设计为具有低于10-9个碱基的压力。
更多关于电子束蒸发镀膜产品信息：
联系人：肖先生
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座机：0755-26510992
官网：www.pvdproducts.cn