PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：
用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；
UHV磁控溅射磁性薄膜；
脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。
仪器主要配置：
主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源。
应用主要包括：
分子束外延系统（MBE）；
GaAs、InP和GaSb外延；
HgCdTe外延；
GaN、InN和AlN外延；
Ⅱ-Ⅵ族外延；
SiGe外延；
Si/金属/氧化物外延；
超高真空物理气相沉积（PVD）系统；
磁控溅射系统；
脉冲激光沉积（PLD）系统；
电子束蒸发系统；
离子束沉积系统；
热蒸发系统。
在PLD/MBE-2300和-2500室都安装有一家电子架及铝合金桌面支持的集成光学列车的钢支架上。包括一对标准的电子货架的第二架装有额外的系统电子产品。此外，该帧用作用于受激准分子激光器提供一个紧凑的布局的支撑台。其它类型的激光器也可被容纳。
标准的系统包括根据需要在单个MFC和额外的微生物燃料电池很容易被添加上。真空计量包括拜亚阿尔珀特离子规，二Convectron仪表和加热电容压力计。该系统的基本压力为5×10 -7乇的标准，5×10 -8乇具有可选负荷闭锁，低于5×10 -9乇具有可选特高压包。
PVD公司已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。
更多关于PLD Laser MBE产品信息：
联系人：肖先生
手机：15018538692
座机：0755-26510992
官网：www.pvdproducts.cn