仪器简介：
激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A/pulse）。
技术参数：
型号 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120 | Pioneer80 |
wafer直径 | 8” | 6” | 2” | 1” |
靶材数量 | 6个1” 或4个2” | 6个1” 或4个2” | 6个1” 或3个2” | 4个1” |
压力(Torr) | <10-8< p=""> | <10-8< p=""> | <10-8< p=""> | <10-8< p=""> |
真空室直径 | 24” | 18” | 12” | 8” |
基片加热器 | 8”，旋转 | 6”，旋转 | 3”， 旋转 | 2”，旋转 |
样品温度 | 850 ° C | 850 ° C | 950 ° C | 950 ° C |
Turbo泵抽速
（liters/sec） | 800 | 260 | 260 | 70 |
计算机控制 | 包括 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋转 | 包括 | 包括 | - | - |
基片预真空室 | 包括 | 选件 | 选件 | - |
扫描激光束系统 | 包括 | 选件 | - | - |
靶预真空室 | 包括 | - | - | - |
IBAD离子束辅助沉积 | 选件 | 选件 | 选件 | - |
CCS连续组成扩展 | 选件 | 选件 | - | - |
高压RHEED | 选件 | - | - | - |
520 liters/sec泵 | a/n | 选件 | - | - |
主要特点：
*PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸发，生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛：很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本：一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率：在10至15分钟，可生长高质量的样品。
*PLD可升级：当需要大批量生产复合氧化物膜时，Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）是高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取（烧灼）使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最号条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。
? 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED
? 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格
? 氧化物薄膜沉积时氧气兼容
? 升级选项：离子辅助PED, 连续组份沉积PED, 进样系统load-lock
? 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/ 直流溅射
? 集成XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统