产品特点1、设备自带冷却水循环装置，样品台制冷不用液氮，运行成本降低；
2、底光外置并配有挡板，样品旋转马达外置；
3、样品具有在线调整功能；
4、离子枪进气单枪单阀便于操作；
5、所有管路均为金属材料真空腔体内径尺寸适当便于更换样品及维修；
6、设备具有断水、欠压及枪过流报警保护功能。
产品参数系统极限真空度：系统冷态极限真空度 7×10-5 Pa
系统工作真空度：0.5小时内达到 1×10-3 Pa
充氩气后压强稳定范围：8.5×10-3 Pa ～ 5×10-2 Pa 间选择
空载轰击电压：0～10KV 连续可调
负载轰击电压：2.5～7.5KV 连续可调
离子枪回路电流最大允许值：小于 5mA
离子流轰击样品表面夹角：± 7°～±20°可任意选择
减薄速率：选紫铜材料为标准样品；当轰击电压 7KV，入射角度 20°，回路电流为500μA时，减薄速率为6μm/小时
样品台冷却温度：零下 50～60℃
样品台转速：12 r/min
样品穿孔位置：偏于样品中心不大于 0.5毫米
产品介绍
主要用途：主要制备用于制备透射电子显微镜的样品，它不但适用于制备金属、非金属材料的薄膜样品，还较好的满足了制备多相组织材料、多孔组织材料、粉末材料、低温类材料、半导体等材料的薄膜样品。
设备组成： 高真空制备系统、样品旋转系统、样品台微调系统、高压电源系统、循环制冷系统、控制系统及高能聚焦离子枪等。