那诺-马斯特

1 离子束清洗 NIE-3000离子束清洗系统 那诺-马斯特

2 离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统 那诺-马斯特

3 晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统 那诺-马斯特

4 晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特

5 进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机 那诺-马斯特

6 硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统 那诺-马斯特

7 晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机 那诺-马斯特

8 等离子清洗设备 NPC-3500（M）等离子去胶机（刻蚀机） 那诺-马斯特

9 等离子去胶机 NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机） 那诺-马斯特

10 薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特

11 ald原子层沉积设备 NLD-4000（M）原子层沉积系统 那诺-马斯特

12 MOCVD设备 NMC-4000（A）全自动PAMOCVD系统 那诺-马斯特

13 反应离子刻蚀 NRE-3500型RIE-PE刻蚀机 那诺-马斯特

14 等离子体刻蚀 NRE-4000型RIE-PE刻蚀机 那诺-马斯特

15 离子束刻蚀机 NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀 那诺-马斯特