纳米级电子束曝光系统实用化研究取得进展

行业动态

纳米级电子束曝光系统实用化研究取得进展
发布时间 2006/11/11 点击 1209 次

由中国科学院电工研究所承担的中科院知识创新工程重大项目——“纳米级电子束曝光系统实用化”日前通过了专家验收。

纳米级电子束曝光系统是半导体、光电子、微机电系统和微结构研究的关键设备之一，它是电子光学、精密机械、真空技术、电子技术和计算机控制技术的综合集成。电工所完成的纳米级电子束曝光系统具有纳米级曝光分辨率，可进行图形拼接和图形套刻，具有完整的操作和控制软件。该设备既可以用于制作精密实验掩模版，也可以在工件上直接曝光。除了微电子产业应用外，由于其极高的分辨率，它也成为当今纳米制造和纳米分析的主要手段。

该项目瞄准国内急需的电子束曝光设备，在攻克实用化样机关键技术基础上，研制了3台以扫描电镜(SEM)为基础，配备以激光定位精密工件台、DSP为核心的多功能图形发生器、控制用微型计算机、真空系统、控制软件和自动输片机构的新型纳米级电子束曝光系统，供科研单位用于纳米科技和半导体前沿研究，满足我国科研机构和国防建设需要。

在该项目在研究过程中，科研人员们还开发了3项具有自主知识产权的创新性关键技术。其中，开发的核心部件——以数字信号处理器(DSP)为核心，以Windows2000为操作系统的通用图形发生器，在自主研制数字信号处理和软件系统方面取得了重大突破。该图形发生器可接收GDSII、CIF、DXF图形数据，并可与SEM、扫描探针显微镜(SPM)、聚焦离子束(FIB)连接，实施曝光或加工，实现高精度图形拼接和套刻。在完成过程中，已将纳米通用图形发生器推向了市场，为我国纳米科技研究做出了重要贡献。

该项目的完成，使我国科学家掌握了基于SEM的纳米电子束曝光系统的关键技术，研制出具有自主知识产权的图形发生器和科研用纳米电子束曝光机，并形成了小批量生产的能力。在此基础上可进一步开辟新型号高性能设备，以满足纳米科技的进一步需求，并探索高技术企业运行机制，形成良性循环，推向产业化。（中科院电工研究所）
[来源：来宝网【www.labbase.net】]

首页|我要求购|展会信息|关于本站

来宝网移动站