产品介绍
1. 真空室
单室立式结构，尺寸为Φ450×300（mm），采用不锈钢焊接成形，前面安装一个CF100观察窗、三个CF16截至阀和一个CF35旁抽角阀。真空室后侧安装三个CF35四芯引线，用于对真空室内用电环节供电。真空室壁上安装有三个CF100法兰，用于安装磁控溅射靶。顶盖可通过升降机构开启，同时安装有磁流体传动装置和电机以满足旋转基片架的工作要求。各法兰接口均采用金属密封。
2. 超高真空获得与测量系统
本产品采用涡轮分子泵+机械泵抽气系统。真空室从1atm到6.6×10-4Pa的抽气时间在40分钟以内。真空室经烘烤后极限真空度可达10-5Pa以下。真空度的测量使用热偶规+电离规的复合真空计测量。
3. 磁控溅射镀膜系统
磁控溅射镀膜利用分布在真空室壁上的三个Φ60的磁控溅射靶来完成。三个靶均配有独立的电源系统，可以单独或共同工作。各个靶材均配有独立的靶筒，靶材到基片的距离在50~150mm范围可调。每个靶均有自身的水冷管道对靶进行冷却，并完成镀膜工作过程。
4. 气体流量控制系统
本产品设置了两套气体管路。一路用于工作气体输送，另一路用于反应气体输送。两路气体通过各自的流量控制器和阀门控制流量和通断，可以独立的或经混气装置混合后，输送到真空室内完成溅射镀膜或反应溅射镀膜过程。
5. 基片架及基片温控系统
本产品设计了两套独立工作的基片夹持装置，用以完成固定模式和旋转模式下的镀膜工作。固定基片架可以夹持四块50mm×30mm×5mm尺寸及以下的基片。旋转样品架可以夹持6块50mm×30mm×5mm的基片。基片架后配有基片加热装置，基片温度在室温到300℃范围内可调，温度控制精度为±5℃以内。基片架和溅射靶之间设有可开启的挡板机构，用于满足溅射初期基片遮挡要求。
6. 电气控制系统
本产品配有两个电气控制柜，采用模块化设计。一个用于真空系统工作控制，包括六个模块：总控模块、真空室控制模块（照明、烘烤、机械泵启停等）、真空测量模块、分子泵控制模块、气体流量控制模块以及旋转基片转速控制模块。另一个用于溅射镀膜过程控制，包括六个模块：总控模块、两个直流溅射电源控制模块、射频电源控制模块、偏压电源控制模块和基片加热温控模块。
WYCD450-I型超高真空磁控溅射镀膜机是合肥皖仪科技有限公司会同国内高校共同研制开发的最新产品。该产品采用独特的结构设计，成功解决了同类设备无法制备复合物薄膜、梯度薄膜的缺点。镀膜机可以工作于不同模式下，有针对性且高效地进行薄膜成分及工艺实验，可以满足高校、科研院所利用磁控溅射方法研制各类高性能薄膜的需求。WYCD450-I型超高真空磁控溅射镀膜机由真空室、超高真空获得与测量系统、溅射镀膜系统、气体流量控制系统、基片架及基片温控系统和电气控制系统等部分组成。
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