产品介绍
中小型 量产级 多功能
Pluto30是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto 30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户无与伦比的灵活性。
Pluto30参数 |
腔体 | 腔体尺寸 | 300W x 280H x 366Dmm |
容量 | 30L |
电极数量 | 最多可达7层 |
电极 | 电极间隙 | 48mm |
功率电极尺寸 | 226W x 210D mm |
接地电极尺寸 | 260W x 210D mm |
射频系统 | 射频功率和频率 | 300W/13.56MHz |
气体控制 | MFC控制器 | 标配1个MFC，最多4个MFC控制器 |
系统控制 | 7寸工业触控屏 | 全数字控制，实时显示工作状况，可设定操作权限和各种报警值，可储存工艺方案 |
真空泵系统 | 油泵 | 32m3/h |
功率 | 220V/10A，50Hz，单相，3线 |
尺寸 | 外形尺寸 | 706W x 804D x 735H mm |
特别装置 需求 | 工艺气体 | 0.25英寸. 气管快接.适用于 15-20psig; |
净化气 | 0.25英寸. 气管快接. 适用于10-100psig |
CDA | 0.25英寸. 气管快接. 适用于60-90psig |
排气接口 | KF40 |
可选项 | 液体前驱体输送系统 |
500W/13.56MHz射频系统 |
37m3/h 干泵 |
排气洗涤器 |
油雾消除器 |
特征及优势
专利气体输送系统，提供气体分配均匀性和灵活的气体分配方法
不同工艺模式（RIE、下游等离子体等）的柔性电极配置
独特的射频系统提供卓越的工艺重复性和处理效率
全自动处理能力
图形用户界面支持配方编辑器、配方驱动流程并提供实时流程信息
台式设计需要较小的占地面积
典型应用
表面活化
增强表面胶体流动性：预成型；预倒装芯片下溢
提高表面能量以提高材料粘合性：预压模粘合；预焊线粘合
表面粗糙度和蚀刻
降低表面应力，改善表面粘结性
灰化和表面清洁
Plasma等离子蚀刻（配备RIE配置)
电介质/III-IV材料
纳米涂层（配备液体前体输送装置）
耐水纳米涂层：印刷电路板表面处理
防腐纳米涂层：医疗器械，医疗植入物
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