产品介绍
日本 ORC UV照射装置 UV干燥处理器 VUM-3073F
UV干燥处理器
HMW-615N-3/HMW-615N-4/VUM-3073F
该装置通过在形成精细图案的过程中(例如半导体制造工艺和液晶基板制造工艺)将UV照射到残留在基板表面上的物质,以非接触方式去除**污染物。
可以清洁和重新形成表面而不损坏基板。
◆特点
1它有自己的低压紫外灯,对电路板的损坏较小,****物质的能力**。
2当使用基板的振荡模式时,UV光均匀地照射到基板上。
3的热度不高。
4也可以应用切**氧的照射方法,吹扫氮气的照射方法。
型式 | HMW-615N-3 | HMW-615N-4 | VUM-3073F |
使用ランプ | 低圧UVランプ VUV-080/A-3.6U?5灯 | 低圧UVランプ VUV-100/A-5.3U?7灯 | 低圧UVランプ VUV-040/A-2.2U?4灯 |
照射距離 | 25mm | 25mm | 15mm |
照射面積 | 300W X 300D | 400W X 400D | 200W X 200D |
照射時間 | 0~10min(可変) | 0~99min59sec(可変) |
排気????除去 | オゾン分解用フィルター使用 |
外形寸法 | 750W X 700DX 1,435H 180kg | 580W X 500DX 240H 25kg |
部分型号:
QRM-2288/QRM-2300/QRM-2215/VUE-3020-172/VUS-3100-R/VUS-3100/HMW-615N-3/HMW-615N-4/VUM-3073F/VUM-3500/
VUS-3300/QRU-2161-F/QRU-2161-H/OHD-110M-ST/UV 300 W/UV 100 W/LUV-L330-Mix/LUV-L330-Mix2/UVS-201D-1/
UV-M10-P / S/UV-M03A/UV-M 08/UV-351
以上信息仅供参考
说明:
1、以上数据仅供参考,产品详细参数请以厂家实际出厂为准,具体请来电咨询。
2、厂家不定期更新产品(如:产品型号、外观、参数、图纸等),具体请来电咨询。