产品介绍
金相显微镜BX41M-LED
编号：BX41M-LED
产品说明： BX41M-LED 拥有ESD 防静电功能，可以保护电子设备免受静电、人体及实验室内的周边环境或商店地面中的静电的影响 暗视场观察法 表面安装板 暗视场可以让用户观察来自样本散射和衍射的光线。光源的光线会先穿过照明装置中的环形光学照明器件，然后在样本上聚焦。样本上的光线只是由Z 轴上的瑕疵反射形成的。因此，用户可以观测到比
BX41M-LED 拥有ESD 防静电功能，可以保护电子设备免受静电、人体及实验室内的周边环境或商店地面中的静电的影响
暗视场观察法
表面安装板
暗视场可以让用户观察来自样本散射和衍射的光线。光源的光线会先穿过照明装置中的环形光学照明器件，然后在样本上聚焦。样本上的光线只是由Z 轴上的瑕疵反射形成的。因此，用户可以观测到比光学显微镜分辨极限更小的、8 nm 级的微小划痕和缺陷。暗视场适合检测样本上的微小划痕及瑕疵和检查表面光滑的样本，包括晶圆。
偏振光观察法
石棉
该显微观察技术所使用的偏振光是由一组滤镜（检偏振器和起偏振器）产生的。样本特征会直接影响系统反射光的强度。该观察法适用于观察金相组织（例，球墨铸铁中石墨的生长图案）、矿物、LCD 和半导体材料。
微分干涉（DIC）观察法
磁头
DIC 是一种显微观察技术，可以将明视场观察法中无法检测到的高度差异，用增强的对比度以浮雕或三维图像的形式表现出来。该项基于偏振光的技术，拥有三个专门设计的棱镜可供选择以满足用户的需求。该观察法适用于检测高度差异极其微小的样本，包括金相组织、矿物、磁头研磨面和硬盘表面及晶圆研磨面。
荧光观察法
半导体晶圆上的颗粒
该项技术适用于观察那些在受到专门设计的滤镜（可以按照检测需要制作）照明时会发出荧光（发出不同波长的光线）的样本。该方法通过荧光染色，应用于观测半导体晶圆表面的污物、抗蚀剂的残渣和裂痕的检测。可以添加选购的复消色差光源聚光透镜系统，从而为可见光到近红外线范围内的色差进行补偿。
IR（红外线）观察法
硅晶片层下的半导体电路
对使用了硅片、玻璃等易透射红外线的电子设备的内部进行无损检测时，IR 观察十分有效。IR 物镜也可用于近红外线技术，如：拉曼光谱仪和YGA 激光修复应用。
处理滤镜
枝晶
OLYMPUS Stream 拥有各种滤镜，可用于边缘检测、平滑处理和其它操作。使用处理滤镜在拍摄的图像上进行增强和修改处理后，图像的特征变为可视化。为达到最佳效果，可使用预览图检查或调整滤镜的效果。
透射光观察法
LCD彩色滤镜
对于透明样本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通过使用各种透射光聚光镜实现真正的透射光观察。使用透射光可以在明视场、暗视场、DIC 和偏振光中对样本进行成像和检查--所有这些都在一个便捷的系统里。
自动制作3D 图像（EFI）
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