产品介绍
详细说明
Laser MBE具备PLD和传统MBE的特性，可对薄膜的生长速率进行精确（原子层级别）控制。通过在MBE系统上增加激光烧蚀工艺，系统可以生长包括高熔点陶瓷以及多元素固体材料等。美国PVD公司有多年的MBE设备制造经验，我们擅于通过原位的监控测量仪器来提高薄膜生长的质量。其中原位测量仪器包括：温度测量、厚度测量、RHEED、束流监控等。
凭借着优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。
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更多关于PLD MBE产品信息：
联系人：肖先生
手机：15018538692
座机：0755-26510992
官网：www.pvdproducts.cn
PLD / MBE-2100系统是三者中最小的PLD / MBE-2000系列系统还包括了这些系统的所有主要功能。它是基于一个304L不锈钢圆柱形腔室。该腔室具有一顶部凸缘，其密封针对由氟橡胶O形环的圆柱体。特高压应用提供了一对差动泵送氟橡胶O型圈。的电动提升机设置解除顶部凸缘，并允许容易进入腔室的内部部件。该腔室包括多个凸缘用于观察目标，基材，烧蚀羽流以及附加配件，例如惠普的RHEED，发射光谱，高温测定，残余气体分析仪等的腔室的后部装配有一个成角度的6鈥？ CF卡接口用于添加的原子或离子源，喷射室，或磁控管溅射源的。的PLD / MBE-2100室包括内部光通过我们的可选双晶圆装载锁定提供样品，目标和基板传输的观赏效果极佳。室的墙壁上有一组可清洗很容易地删除时，烧蚀材料堆积成为显著内部SS盾牌。由于有限的清洁球PLD设计室的墙壁是不是很容易的事情。此外，在PLD / MBE系统涡轮泵脱落腔室保护从小零件或样品可无意中落入系统泵的一侧。
PLD / MBE-2100室安装与集成光学列车的钢支架上。提供第二帧包括一对标准的19鈥？全电子机架容纳所有系统的电子产品。此外，该帧用作用于受激准分子激光器提供一个紧凑的布局的支撑台。其它类型的激光器也可被容纳。与位于机架顶部的激光需要时它是易于接近以进行维修。在PLD / MBE-2100室是由一个荏原EV A03干式涡旋泵的支持一个普发500升/秒的涡轮泵泵送。
该系统包括一个集成的压力控制器，以提供岩石稳态沉积压力为1?500毫托增值税系列642闭环闸阀。标准的系统包括根据需要在单个MFC和额外的微生物燃料电池很容易增加。真空计量包括贝亚德阿尔珀特电离压力计，二Convectron计，和一个电容压力计。该系统的基本压力为5×10 -7乇的标准，5×10 -8乇具有可选负荷闭锁，低于5×10 -9乇具有可选特高压包。的PLD / MBE-2100配备了处理六（6）2英寸直径的目标一个目标操纵。目标由重力在基座保持，从而不需要靶夹紧。小于直径目标或其他小型目标的尺寸可以很容易地适应与可选的插入。
PLD / MBE-2100系统选项
PLD / MBE沉积系统配有多种选择。这些包括如下：
双晶圆装载锁定
附加MFC
特高压选项低于5×10-9底压力
法兰安装磁控溅射源与DC或RF电源
光纤耦合高温计
法兰安装离子源
法兰安装原子的氧，氮，或氢源
法兰安装积液细胞
高压RHEED包与数据采集
RF偏置基材为基材预清洁和反应性气体形成
准分子激光封装，气柜及报警系统
Nd：YAG，FS和ps激光包
更多产品信息欢迎来电垂询：0755-26510992
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