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深紫外（DUV）光刻工艺已经被证明对许多种分子级别空气污染物特别敏感，氨气和酸性气体会在整个生产区域产生问题。抗紫外材料、长寿命过滤器的使用并没有减少对周围环境空气监测的需求，事实上，

环境空气分子污染物的监测显得越来越重要。ORION 3100系统的测量原理基于CEAS（腔体增强吸收光谱）技术，有效延长空气过滤器的使用寿命和减少故障出现次数。通过ETG HMI（人机交互界面）软件，操作者可以实时对位于不同测量点的多台氨，HCI，HF分析仪进行控制。这个软件专门为半导体行业设计，主要用于深紫外光刻工艺环境空气监测。该软件也可用于其它工业或实验室现场监测，但是需要用到一台或多台CEAS分析仪实现多点采样。该软件建立在Windows操作系统之上，采用交互控制报警，具有数据采集，历史数据趋势记录和基本测量等功能。