| Evolution 201紫外可见光分光光度计 | Evolution 220紫外可见光分光光度计 |
光学系统设计 | 双光束配有样品和参比池架位置;Czerny-Turner单色仪 | 双光束配有样品和参比池架位置;AFBG技术;Czerny-Turner单色仪 |
光谱带宽 | 1.0 nm | 可变:1 nm或者2 nm;AFBG微量池优化;AFBG光纤模块优化;AFBG材料测试优化 |
光源 | 闪烁式氙灯,质保3年(一般可用5年) |
检测器 | 双硅光电二极管 |
扫描坐标模式 | 吸光度Abs,透射率T%,反射率R%, Kubelka-Munklog(1/R),log(Abs),Abs*Factor,强度Intensity |
分辨率 | >1.6(峰-谷比;甲苯正己烷) |
波长范围 | 190到1100 nm |
波长准度 | ±0.8 nm(全量程190到1100 nm)±0.5 nm(546.11 nm汞线) |
重复性 | 0.1 nm(546.11 nm汞线, 10次测量标准偏差) |
扫描速度 | < 1到6000 nm/min,可调节 |
数据间隔 | 10,5,2,1.0,0.5,0.2,0.1 nm |
吸光度范围 | > 3.5 A |
吸光度显示范围 | -0.3到4.0 B1115A |
仪器准度 | 0.5 A:± 0.004 A ,1 A:± 0.006 A , 2 A:± 0.010 A 依照NIST/NPL,使用中等强度滤光片,在440 nm测量 |
准度—密封溶液(EP/BP/TGA) | ± 0.010 A(60 mg/L K2Cr2O7) |
噪声 | 0 A: 0.00015 A ,1 A: 0.00050 A ,2 A: 0.00080 A ,260 nm,1.0 nm SBW,RMS |
漂移(稳定性) | < 0.0005 A/hr ,500 nm,1.0 nm SBW,1小时预热 |
杂散光 | KCl,198 nm: 1% T ;Nal,220 nm: 0.05% T ;NaNO2,340 nm: 0.05% T |
基线平直度 | ± 0.0010 A ,200到800 nm,1.0 nm SBW,平滑处理 |
键盘 | 膜密封 |
本机控制显示 | 触摸屏LCD面板;800×480;17.8 cm(对角线)屏幕 |
本机控制操作系统 | 内置微软Windows XP |
尺寸 | 62.2 cm长 ×48.6 cm宽 × 27.9 cm高 |
重量 | 14.4公斤 |
电源 | 100-240伏,50-60Hz,自动选择最大功率150瓦 |