产品介绍
ZB系列电子束蒸发镀膜设备
该系统是一种高能量密度的热蒸发系统，最大功率密度可达109W/cm2。可广泛应用于航空、航天、制造等领域，实现薄膜与涂层制备、零部件表面改性。本系统还可以设计为双室卧式结构的高真空电子束沉积镀膜装置，系统极限真空：可达5×10-3Pa，电子枪主要技术指标：电子枪数量(根据用户要求)：4-6个， 单枪最大功率：38KW， 最小电子束径：3mm
技术指标：
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型号
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ZB500
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ZB700
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ZB900
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真空室尺寸
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500X550X700mm
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700X700X900mm
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900X900X1100mm
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真空系统配置
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低温泵、罗茨泵（或机械泵）、挡板阀
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极限压力
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≤2.6x10-5Pa (经烘烤除气后)
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恢复真空时间
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30分钟可达到5.0x10-4Pa
(暴露大气15分钟充干燥氮气开始抽气)
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20分钟可达到2.6x10-4Pa
(暴露大气15分钟充干燥氮气开始抽气)
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拱形基片
加热转台
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基片数量/尺寸
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30片/2″
18片/3″
8片/4″
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126片/2″
69片/3″
54片/4″
24片/5″
18片/6″
12片/8″
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201片/2″
111片/3″
67片/4″
51片/5″
36片/6″
18片/8″
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运动方式
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公转/自转
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光加热
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基片加热最高温度300℃±5℃
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控温精度/温度均匀性
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＜±1％/＜±5％
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行星基片
加热转台
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基片数量/尺寸
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20片/3″
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54片/4″
18片/6″
12片/8″
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60片/4″
24片/6″
15片/8″
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运动方式
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公转/自转
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光加热
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基片加热最高温度300℃±5℃
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控温精度/温度均匀性
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＜±1％/＜±5％
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蒸发速率 (铝)
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0.1-15 Å/s
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0.1-20Å/s
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0.1-30 Å/s
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不均匀性
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＜±5％
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膜厚仪 (美国进口)
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SQC310
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电子枪
美国进口 TELEMARK
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6KW/四穴/25CC
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8KW/四穴/25CC
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10KW/四穴/40CC
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计算机控制系统
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由工控机和PLC实现对整个系统的控制，有自动和手动控制两种功能，操作过程全部在触摸屏上实现，提供配方设置、真空系统、电子枪系统、工艺系统、充气系统、冷却系统等人机操作界面；在工控机上可通过配方式参数设置方式实现对程序工艺过程和设备参数的设置。
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气路系统
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质量流量控制器1路
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应用范围：金属材料表面改性， 可实现速度加热，在极短时间内使金属表面加热甚至熔化，控制表面组织，达到表面改性目的。真空蒸发沉积制备薄膜与涂层，可以蒸发诸如W、Mo、不锈钢、耐热钢、高温合金以及碳化物、氮化物、氧化物等几乎所有材料。适用于高速沉积制备如抗高温氧化涂层、热障涂层、超硬涂层、耐磨涂层等金属与陶瓷涂层、超导薄膜、陶瓷薄膜等功能薄膜。该系统具有高速蒸发沉积的功能，可用于叠层薄板材料的制备。
同时广泛应用于半导体、LED生产线批量生产，可满足铝、钛、铬、钼、钒、镍、银、铟等金属，ITO氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求。该设备现有ZB-500、ZB-700、ZB-900三个型号。系统主要由蒸发室、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电子枪电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超洁净间间壁隔离安装。
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