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产品介绍

 膜厚测量仪 FE-300

 产品特色：

 薄膜到厚膜的宽广量测范围。

利用反射率光谱解析膜厚。

 功能齐全，低价格并不影响高精度量测的表现。

 设定与操作的简易化，短时间内即可上手。

 提供价格优惠的固定平台与可自动对位平台两种规格。

 非线性最小二乘法、PV法、FFT法等多种膜厚量测手法。

 以非线性最小二乘法、解析光学常数(n:屈折率，k:衰减系数)。

 测量项目

应用范围

■ 半导体晶圆(光阻、SOI、SiO2等)
■ 光学薄膜(AR膜、ITO膜等)

 规格样式

*1 比对VLSI约100nm的硅氧化膜标准样品，量测精度同保证书所记载。
*2 相同样品，相同量测点位的再现性变动误差。