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产品介绍

矩形磁控溅射靶

最大靶材尺寸达11英寸宽140英寸长独特磁铁设计，高的靶材利用率，靶材“跑道”可见内、中心和外环三部分。

兼容直流、射频、脉冲电源，可溅射金属（磁性或非磁）、半导体及绝缘材料。

靶材无需加背板可直接方便地卡入靶枪（省时省钱），间接（或直接）水冷结构，卓越的成膜均匀性、溅射速率。

内（外）安装结构，内安装可调节溅射距离。气体可直接引至靶表面。

矩形磁控溅射靶针对磁性材料设计更加精细和专业，即专业提供分别用于 Fe,Co,Ni的靶枪，提高不同材料磁效应。做出更加专业精准的薄膜质量。