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FELLES公司2011年11月29日在香港，深圳和天津三地发布新型薄膜测厚仪用于测量聚合物薄膜和光致抗蚀剂薄膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n'' k)的变化。这款薄膜测厚仪独具对薄膜加热或制冷情况下的薄膜厚度，薄膜吸收系数等光学常量的测量。为此，厂商特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (T_g)'' ，热分解温度thermal degradation temperature (T_d) ，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。

详情浏览： http://www.fellesoptik.com/product-368.html

http://www.fellesoptik.com/gallery-146.html

据悉，该薄膜测厚仪可用于：

聚合物薄膜测量
光致抗蚀剂薄膜测量
化学和生物薄膜测量，传感测量
光电子薄膜结构测量 
半导体制造  
在线测量
光学镀膜测量